Cuidado Responsable, el cual fue iniciado por la Chemistry Industry Association of Canada (Formalmente Canadian Chemical Producers' Association, CCPA) en 1987 y se divulgó rápidamente en la industria en unos pocos años, se trata de una iniciativa activo en la industria química y la de ingeniería química globalmente. Actualmente existen más de 53 países que participan en esta iniciativa. Nuestras pautas para los estándares de seguridad son más meticulosos y regulados que los que rigen en estos países de Cuidado Responsable. Esto demuestra la magnitud de nuestra determinación en preservación y conservación. Los conceptos de Cuidado Responsable en Taiwán se introdujeron en un principio por la Administración de Protección de Medio Ambiente en 1990, y la Asociación de Industria Química de Taiwán también los promocionó. En 1998, El Buró de Desarrollo Industrial del Ministerio de Asuntos Económicos ayudó para establecer la Asociación del Cuidado Responsable de Taiwán. Con la implementación del " Cuidado Responsable ", nos dedicamos a cumplir con los estándares de seguridad en nuestras actividades de mercadeo, administración de operaciones, desarrollo de investigación, administración de producción, distribución de los canales, y como último pero no del menor importancia, administración de deshechos. Al mismo tiempo, nuestra dedicación ayuda a mejorar la salud y la conciencia de seguridad entre nuestros empleados, contractistas, proveedores, clientes y los vecinos que viven cerca.
Seguridad, Calidad, Medio Ambiente
Por muchos años, Imperial Chemical Corporation no hace ninguna concesión cuando se trate de la seguridad, calidad y medio ambiente. Hemos estipulado una seriae de normas y hemos comprometido activamente en la seguridad industrial, salud de los empleados, dirección corporativa, administración de productos, protección ambiental, y servicios comunitarios. Continuamos a incrementar los estándares de seguridad y del medio ambiente de la industria química para hacer nuestro mundo un lugar mejor y más seguro para vivir.